IVF-ET反复移植失败原因探究
2020年12月11日 8057人阅读 返回文章列表
近年来,不孕症已成为世界性生殖健康问题,育龄妇女不孕症发病率高达 8%~10%,并呈逐年上升趋势。随着人类辅助生殖技术的快速发展,辅助生殖技术(ART)的迅速发展使众多不孕症患者借助体外受精-胚胎移植(in vitro fertilization and embryo transfer,IVF-ET)及其衍生技术获得了后代。然而近 20 多年IVF-ET的胚胎种植率始终上升空间有限,胚胎种植率较低仍是影响生殖技术发展的一大难题,其中有很大一部分妇女经历多次优质胚胎移植亦不能获得妊娠。
反复种植失败(repeated Implantation failure,RIF)已经成为阻碍妊娠率进一步提高的瓶颈问题,且日益受到生殖医学界的广泛关注,相关研究报道也逐年增多,但对RIF的诊断标准尚未统一,发生原因尚不完全清楚,亦没有明确有效的治疗措施。
目前国内、外关于RIF的定义尚没有统一标准,目前被国内大多数学者接受的RIF定义为:移植高质量胚胎超过 3 次且排除卵巢早衰而未妊娠。因为没有统一的定义,故对于RIF患病率各家报道亦不一致,RIF约占辅助生殖技术的 10%。
RIF患者的可能原因,大致可归为以下4个方面:
1.子宫问题。如宫腔病变、子宫内膜厚度不佳、内膜容受性相关黏附因子及细胞因子的表达异常、免疫紊乱和血栓形成倾向;
2.胚胎质量缺陷。如染色体异常:减数分裂的异常、父系染色体的异常等;
3.多因素效应。包括年龄增大、子宫内膜异位症、输卵管积水、不适当的卵巢刺激、胚胎移植技巧缺陷和患者精神心理因素;
4.不明原因。即排除以上所有可能的原因仍不能成功妊娠的。
目前认为2/3 的RIF是由于子宫内膜容受性紊乱所致着床失败,其次是胚胎的质量问题。其中特别值得引起关注的宫腔镜检查对于IVF-ET的作用。IVF-ET不断发展成熟,胚胎质量与数量均得到很大优化,但胚胎植入率与临床妊娠率却仍未见明显升高,原因可能是宫腔内异常,干扰了胚胎种植及妊娠继续,导致不孕及流产。如何改善子宫性问题已成为目前人类辅助生殖技术临床专家共识。宫腔镜子宫内膜微创术是微创诊疗技术,可直视了解宫腔内有无解剖异常及微小病变,并且可对宫腔内病变进行及时微创处理,对IVF-ET胚胎种植失败的患者,在下周期IVF-ET或冻融胚胎移植术治疗前进行诊治,可有效改善子宫内膜容受性,提高胚胎种植率与临床妊娠率。宫腔镜检查在IVF-ET治疗中发挥着不可忽视的作用,具有快速、简单、准确、损伤小、痛苦少的优点,对于IVF-ET种植失败患者再次行IVF-ET治疗前行宫腔镜检查,可有效改善子宫内膜环境,利于胚胎着床,提高胚胎种植率及临床妊娠率,降低治疗经济费用。是安全、有效、经济、简便、可行的方法。
目前还不能明确每一例RIF患者的病因,并针对其病因给予有效的对症治疗,这些都是我们亟待解决的问题。就目前的条件而言,对RIF患者给予药物或者机械操作以提高子宫内膜容受性,行宫、腹腔镜检查排除宫腔及盆腔病变以改善胚胎种植环境,通过辅助孵化、选择性囊胚移植、植入前胚胎遗传学筛查、共培养等技术提高胚胎着床能力都有可能改善和提高其种植率及妊娠率。